华为畅享 70X 来袭!1 月 3 日预售,亮点抢先看
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苹果在追求iPhone真全面屏设计的过程中,遭遇了一个重大难题:如何在保留Face ID功能的同时,实现屏下技术。Face ID依靠精密的深感摄像头系统运作,该系统包含红外摄像头和点阵投影器等组件,这些组件在当前技术水平下难以完全隐匿于屏幕之下,因此苹果暂时采用了“药丸屏”设计作为过渡方案。
不过,最新的动态显示,苹果可能已经找到了破解这一难题的方法。据相关媒体报道,苹果已经获得了一项屏下Face ID的专利,该专利或将彻底颠覆iPhone的屏幕设计。该专利的核心在于解决红外光在屏幕下的透射效率问题,因为红外光虽然可以穿透显示屏,但透射效率较低,这会严重影响人脸识别的速度和精确度。
为了攻克这一技术难关,苹果的专利提出了一种创新的解决策略:移除部分子像素。在常规的显示器结构中,每个像素由红、绿、蓝三个子像素构成,共同决定屏幕的色彩显示。而苹果的方案是,移除相邻的相同颜色子像素,为红外光创造通道,使其能够顺畅地穿过OLED面板。由于这些被移除的子像素的颜色可以通过相邻子像素的混合来补偿,因此用户几乎感受不到任何视觉差异。
这一技术的突破,预示着iPhone将有望摆脱现有的药丸屏设计,步入真正的全面屏时代。据悉,这一方案有望在2026年的iPhone 18系列上得到实施。届时,iPhone 18系列将采用单挖孔屏设计,为用户提供更加沉浸的视觉享受。
这一变革不仅将提升iPhone的外观设计水平,更将推动智能手机行业的持续进步。随着屏下技术的日益成熟,未来或将有更多智能手机采用类似的设计,为用户带来更加卓越的使用体验。
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